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產(chǎn)品展示

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顯微光致發(fā)光光譜儀

  • 產(chǎn)品型號:OmniPL-MicroS
  • 產(chǎn)品時間:2024-05-20
  • 簡要描述:光致發(fā)光(photoluminescence) 即PL,是用紫外、可見或紅外輻射激發(fā)發(fā)光材料而產(chǎn)生的發(fā)光,在半導體材料的發(fā)光特性測量應用中通常是用激光(波長如325nm、532nm、785nm 等)激發(fā)材料(如GaN、ZnO、GaAs 等)產(chǎn)生熒光,通過對其熒光光譜(即PL 譜)的測量,分析該材料的光學特性,如禁帶寬度等。
  • 產(chǎn)品介紹

    光致發(fā)光(photoluminescence) 即PL,是用紫外、可見或紅外輻射激發(fā)發(fā)光材料而產(chǎn)生的發(fā)光,在半導體材料的發(fā)光特性測量應用中通常是用激光(波長如325nm532nm、785nm 等)激發(fā)材料(如GaN、ZnO、GaAs 等)產(chǎn)生熒光,通過對其熒光光譜(即PL 譜)的測量,分析該材料的光學特性,如禁帶寬度等。光致發(fā)光可以提供有關材料的結(jié)構(gòu)、成分及環(huán)境原子排列的信息,是一種非破壞性的、高靈敏度的分析方法,因而在物理學、材料科學、化學及分子生物學等相關領域被廣泛應用。
 

    傳統(tǒng)的顯微光致發(fā)光光譜儀都是采用標準的顯微鏡與熒光光譜儀的結(jié)合,但是傳統(tǒng)的顯微鏡在材料的PL 譜測量中,存在很大的局限性,比如無法靈活的選擇實驗所需的激光器(特別對于UV 波段的激光器,沒有足夠適用的配件),無法方便的與超低溫制冷機配合使用,采用光纖作為光收集裝置時耦合效率太低等等問題,都是采用標準顯微鏡難以回避的問題。

    北京卓立漢光儀器有限公司結(jié)合了公司十余年熒光光譜儀和光譜系統(tǒng)的設計經(jīng)驗和普遍用戶的實際需求,推出了“OmniPLMicroS”系列顯微光致發(fā)光光譜儀,有效的解決了上述問題,是目前市場上 具性價比的的顯微PL 光譜測量的解決方案。

 性能特點:

●一體化的光學調(diào)校——所有光學元件只需要在初次安裝時進行調(diào)校,確保高效性和易用性

● 簡單易用的雙光路設計——可隨意在水平和垂直光路上進行切換,適用于各種常見的樣品形態(tài)

● 超寬光譜范圍**——200nm-1600nm

● 視頻監(jiān)視光路——可供調(diào)整測試點

● *的發(fā)射光譜校正功能*——讓光譜測量更精準且具有可比性

● 多種激發(fā)波長可選**——325nm,405nm,442nm,473nm,532nm,633nm,785nm等

● 自動mapping功能可選*——50mm×50mm測量區(qū)間,可定制特殊規(guī)格

● 電致發(fā)光(EL)功能可選*——擴展選項

● 顯微拉曼光譜測量功能可選*——擴展選項

● 超低溫測量附件可選*——提供10K以下的超低溫測量

*選配項,請詳細咨詢;

**需根據(jù)實際需要進行配置確定。

參數(shù)規(guī)格表*

 應用
不同制冷溫度下GaN材料的PL譜
激發(fā)波長:325nm,功率:20mW,制冷機 低制冷溫度:10K


ZnO材料的PL譜

激發(fā)波長:325nm; ZnO 薄膜樣品在382nm 處有一個特別強的熒光譜帶,而在500 ~ 600nm 波段,有個弱的可見光熒光譜帶。

通過研究這些譜帶,可以反映ZnO 表面態(tài)對熒光的影響以及晶型和缺陷信息。
 

 

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